Basit öğe kaydını göster

dc.contributor.authorCerah, Burak
dc.date.accessioned2019-09-06T09:19:29Z
dc.date.available2019-09-06T09:19:29Z
dc.date.issued2016
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/11436/337
dc.description.abstractBu çalışmada özellikle teknolojide çok kullanılan yarı iletkenlerden olan GaAs ve Si kristallerinin kütle soğurma katsayısı, toplam tesir kesiti ve elektron yoğunlukları ölçülmüştür. Özellikle GaAs kristali için etkin atom numarasında deney ve teori arasında bir farkın olduğu görülmüştür. Bu fark küçük gözükse de uygulamada önemlidir. In this study, the mass absorption coefficient and the total cross section of the electron density were measured of GaAs and Si semiconductors, materials which are of technological importance. A difference was determined between theory and experiamental values, especially for GaAs crystals and its effective atomic number. Although this difference was small, it has important implications in pratice.en_US
dc.language.isoturen_US
dc.publisherRecep Tayyip Erdoğan Üniversitesi / Fen Bilimleri Enstitüsü / Fizik Anabilim Dalıen_US
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen_US
dc.subject0-Belirleneceken_US
dc.titleGaAs ve Si yarı iletkenlerinin etkin atom numarası ve kütle soğurma katsayısının yönelime bağlı ölçümüen_US
dc.title.alternativeGaAs and Si semiconductors effective atomic number and orientation depending on the measurement of the mass aborption coefficienten_US
dc.typemasterThesisen_US
dc.contributor.department0-Belirleneceken_US
dc.contributor.institutionauthorCerah, Burak
dc.relation.publicationcategoryTezen_US


Bu öğenin dosyaları:

Thumbnail

Bu öğe aşağıdaki koleksiyon(lar)da görünmektedir.

Basit öğe kaydını göster